第66章 合纵连横（1 / 2）

说起来光刻机那可是大有来头，被誉为半导体工业皇冠上的明珠，由此可见光刻机对于半导体行业的重要性。

后世华夏企业之所以被卡脖子这么严重，很大程度上就是由于ASML集团的光刻机被限制出口到华夏，所以才导致空有技术，但是生产不出来的困境。

当前世界上一共有两种主流的光刻机，一种是DUV光刻机一种是EUV光刻机，在90年代后期到21世纪初，光刻机一直以岛国为龙头企业，集齐了尼康和佳能两大光学巨头，一时间风头无两。

但是随着三星、台积电和现代将宝压在ASML身上，这个来自荷兰的厂商开启了自己一步绝尘之路，以狂傲的姿态开启了自己在光刻机领域称王称霸的道路，直接把日系光刻机压的半死不活。

先从DUV光刻机讲起，DUV光刻技术最早是由日本和荷兰独立完成，2002年DUV技术在干法ArF后期演化成2条主要进化方向：其一是用157nm的F2的准分子光源取代193nm的ArF光源。该方法较浸没式ArF更为保守，代表厂商是尼康和佳能。其二，采用台积电林本坚的方案，依然使用193nm的ArF光源，但是将镜头和光刻胶之间的介质由空气改成液体。

可以说这两种方法各有优劣，但是由于ASML抢先在2003年就研制出来了第一台浸没式光刻机，而尼康直到2006年才研制出来，所以三年的时间让ASML成为了光刻机领域当之无愧的龙头企业。

有了arf工艺的DUV光刻机理论上能做到7nm但是基本上只能做到25nm再往下就得付出多倍的精力。

因此要想得7nm及以下的芯片制程就必须有，EUV光刻机来做支撑，而EUV光刻机的技术99.9999%都掌握在美利坚手里。

1997年EUV LLC联盟成立，ASML成功入局。EUV技术起源于英特尔和美国政府牵头成立EUV LLC联盟。

该联盟汇聚了美国顶尖的研究资源和芯片巨头，包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室三大国家实验室，联合IBM、AMD、摩托罗拉等科技巨头，集中数百位顶尖科学家，共同研究EUV光刻技术。

美国政府担心尖端技术落入外国公司，所以反对尼康的加入，而ASML做出在美国建立工厂和研发基地等多项让步后才成功加入EUV联盟。随后，ASML在2007年收购美国Brion，获取了光刻技术后，成功开启并购美国光刻企业之路。至此，美国开始在EUV技术方面渗入ASML。

最后EUV光刻机的技术全都掌握在美利坚人的手里，连ASML都已经成为美利坚的附庸。

话说到这关于光刻机的历史就已经全部都赘述完了，而陈衍的下一步计划也已经呼之欲出了。